您的位置首页生活百科

图形化的柔性透明导电薄膜及其制法

图形化的柔性透明导电薄膜及其制法

《图形化的柔性透明导电薄膜及其制法》是苏州纳格光电科技有限公司于2011年3月11日申请的专利,该专利的申请号为201110058431X,公布号为CN102222538A,授权公布日为2011年10月19日,发明人是崔铮、高育龙、陈林森、周小红、李丰、张东煜、方慧。

《图形化的柔性透明导电薄膜及其制法》揭示了一种图形化的柔性透明导电薄膜及其制法,自下而上包括柔性透明的基底、透明压印胶及嵌设其中的导电材料;其中透明压印胶表面具有图形化、相连通的沟槽网络,且沟槽网络以外的面积和占薄膜全表面积的80%以上,其沟槽深度小于透明压印胶厚度;所述导电材料烧结前后分别为导电墨水和导电膜,导电墨水均匀填设于沟槽网络底部并相互连通,导电膜厚度小于沟槽深度;薄膜具有导电膜覆盖下的导电网络和沟槽网络以外的透光区域。并且该发明提出了该导电网络的设计方案,基于压印和刮涂导电墨水等技术实现制备。其实施效果上,一方面极大的提高薄膜的防划抗刮特性,另一方面最大程度地改善透明导电膜的导电率。

2014年11月6日,《图形化的柔性透明导电薄膜及其制法》获得第十六届中国专利金奖。

(概述图为《图形化的柔性透明导电薄膜及其制法》摘要附图)

想要了解更多“图形化的柔性透明导电薄膜及其制法”的信息,请点击:图形化的柔性透明导电薄膜及其制法百科